光栅作为元素使用
当 Bentley Descartes 加载完毕后，即可将光栅像设计元素一样使用。您可以使用 MicroStation 元素选择工具选择光栅，将光栅添加到活动选择集中，在包含光栅和矢量元素的选择集中应用 MicroStation 工具（如“移动”和“缩放”），快速选择集以及执行其它操作。
ProjectWise (I/Desktop) 兼容性
现在，Bentley Descartes V8 XM 版的所有打开或创建文件功能都可以访问 ProjectWise 文件夹或本地文件夹。例如，您可以对本地硬盘中的图像使用 Corridor 工具，然后将生成的 Corridor 图像输出到 ProjectWise 中。Bentley Descartes 的编辑功能将检查图像的状态，并且仅当状态为“检出”时才会生效。要检出一个已打开的图像，只需在 Raster Manager 对话框的“只读”列中清除相关选中标记即可。这样的集成在 Bentley Descartes 应用程序中随处可见。
图像增强工具
Bentley Descartes 的 XM 版本提供新的增强工具。这些工具的说明请参见下文。
对比拉伸：此工具提供直观界面，最高可以将光栅图像的精细度提升为 64 位。它提供一个预览窗格，其中包含一整套导航工具集，可用于对当前的增强设置进行快速准确的实时反馈。
密度切割：
此工具提供一个直观界面，用户可以使用此工具基于像素密度采用不同颜色显示不同的光栅区域。它提供一个预览窗格，其中包含一整套导航工具集，可用于对当前的密度设置进行快速准确的实时反馈。
柱状图：此工具提供直观界面，可用于对特定光栅进行柱状图探索。
重新设计的蒙覆核心
由于总体性能得到了增强，XM 版本下的蒙覆速度更快，使用的内存更少。现在，可以在 MicroStation 中对地形模型中的图像进行蒙覆。Bentley Descartes 仍然要求附加过程化材质“DCDRAPE.PAL”，以及蒙覆所需的所有光栅。为了要让仍处于 Descartes 中的图像可以在 MicroStation 下进行蒙覆，请在 Raster Manager 对话框的“蒙覆”列中启用此选项。一旦启用，MicroStation 中的光栅将蒙覆，即使此时 Bentley Descartes 并未加载或者甚至并未出现在系统中也是如此。在 XM 版本中，光栅也可以显示为“无蒙覆”状态。这可以通过在 Raster Manager 对话框的“蒙覆”列中禁用此选项实现。如果 Bentley Descartes 未加载，则无法修改此选项。
支持 LUT（查找表）
Raster Manager 现在支持显示 I/RAS C LUT。LUT 就是存储在图像标题中的一个信息块，它可以通过动态应用各种增强功能（如对比度/亮度/发光度等）改变图像的显示方式。默认情况下，此功能为启用状态，系统将自动检测出 LUT 并应用它。要显示这一功能，您必须创建配置变量 MS_RASTER_INTERGRAPH_FILE_IGNORE_LUT 为其分配值 1。当启用后，图像将自动设为只读。要想获得对光栅进行编辑的许可，必须永久应用 LUT。有两种方法可以实现这一目的。
- 另存为。使用“另存为...”创建一个新图像。这是所见即所得的功能，“另存为”中没有选项可用于对此进行控制。
- 光栅修复实用程序。在“键入”对话框中，键入“mdl load rastfix”。此操作将在 Raster Manager“编辑”菜单中添加新的菜单项。在“编辑”菜单中，选择“LUT”。
像素网格
当缩放比率超过 1:1 时，Bentley Descartes 将开始显示像素网格。用户可以启用或禁用网格显示，而且用户还可以使用自己选择的颜色自定义“网格线”的颜色。
套准
控制点文件可以作为分隔文本文件导出和导入。导入时会读取为包含控制点的 TXT 文件。控制点文件可以保存为下列格式：RGR - XM 格式、Descartes v8.1、Descartes v8.0、Descartes v7、TXT（逗号分隔）。
新改进版光栅至矢量转换功能
Bentley Descartes XM Edition 新添加了一个改进版的光学字符识别 (OCR) 引擎。Descartes 的新 OCR 引擎基于最新的字符识别技术和算法。支持的语言包括：英语、德语、法语、意大利语、西班牙语、葡萄牙语、荷兰语、丹麦语和瑞典语。
自动矢量化功能也通过利用新的线跟随以及最近才开发出来的线泛化算法和技术得到了改进。新的线跟随引擎提供更为强大的算法，可以更好地检测边界、障碍物和交叉点。它更快速而且更准确。在新改进版线泛化算法的支持下，这个新添加的“自动矢量化”引擎可生成直线、平滑曲线以及正确的弧线。